Target titanium

Kemurnian
Purity is one of the main performance indicators of the target, because the purity of the target has a great influence on the performance of the film. However, in practical applications, the purity requirements for the target are not the same. For example, with the rapid development of the microelectronics industry, the silicon chip size has been developed from 6", 8" to 12", while the wiring width has been reduced from 0 . 5um ke 0 . 25um, 0,18um atau bahkan 0,13um, dan kemurnian target 99,995% sebelumnya dapat memenuhi persyaratan proses 0,35umic.
Konten pengotor
Kotoran dalam padatan target dan uap oksigen dan air di pori -pori adalah sumber polusi utama dari film yang disimpan . target untuk tujuan yang berbeda memiliki persyaratan yang berbeda untuk berbagai konten pengotor. misalnya}}} {}} {} {} {{konten aluminium purba {{konten aluminium pure {{{{{{{{{{{{{{{{{{{radion {{radion {{radion {{{radive {
Kepadatan
Untuk mengurangi porositas dalam solid target dan meningkatkan kinerja film sputtered, target biasanya diperlukan untuk memiliki kepadatan tinggi . kepadatan target tidak hanya mempengaruhi laju sputtering, tetapi juga mempengaruhi kepadatan listrik dan optik dari film . {lebih tinggi {{{1} {lebih tinggi {{1} {lebih tinggi {{{1} {lebih tinggi {{{1} {lebih tinggi {{{1} {lebih tinggi {{{1} {{{1 {{{{1 {{1 {{{1 {{1 Kepadatan dan kekuatan target membuat target lebih mampu menahan tegangan termal selama sputtering . kepadatan juga merupakan salah satu indeks kinerja utama dari bahan target .